次微米計畫
次微米计划
注音一式：
ㄘˋ ㄨㄟˊ ㄇㄧˇ ㄐㄧˋ ㄏㄨㄚˋ
漢語拼音：
cì wéi mǐ jì huà
漢語拼音數字：
ci4 wei2 mi3 ji4 hua4
釋義：
次微米指小於一微米的半導體製作技術。民國七十九年，政府為建立完整之半導體產業，期盼能引導產業進入次微米時代。乃由經濟部委託工研院電子所主導，並撥列經費以規劃籌建次微米實驗室，做為驅動我國IC技術跨入次微米新紀元的前哨。七十九年七月，次微米計畫研發工作正式展開，為期五年（西元一九九○至一九九五年）。整體計畫目標如下：(1) 建立一座八吋晶圓，Class 0.1 (0.3微米）的世界一流水準的實驗室，以提供開發次微米製程技術。(2) 在一九九五年以前使中華民國具備：a. 0.7/0.5微米整合製程技術。b. 0.35 微米製程模組技術。(3) 建立超潔淨技術及八吋晶圓量產型技術。(4) 建立中華民國極大型積體電路（ULSI）研究發展能力，並對世界IC研究發展的領域有所貢獻。
部首外筆畫數：
0
總筆畫數：
0
異體字：
否